半導體生產廢水處理工藝介紹

文章來源：濱特爾 作者：小編 發布時間：2022-3-22 16:42:31 瀏覽次數： 次

　　半導體工業作為我國迅速發展的生產行業，主要應用于電子機械制造業，當前半導體工業生產廢水主要有三種類型，即含氟廢水、含銅廢水和含氨廢水，由于其水質復雜，污染物含量高，對環境造成的影響較大，加強半導體廢水的處理是企業急需解決的環保難題，下面恒大興業環保給大家介紹一下半導體生產廢水處理。

　　通過膜生物反應器和三級處理系統，對半導體生產廢水進行處理，使其達到新的嚴格的環保要求，并在廠內實際再利用，既有效地節省了有限的水資源，又減少了污水排放，具有良好的經濟效益。

　　半導體生產廢水再回收技術特征：

　　(1)中水回用設備產生的泥沙量少，臭氣產生量少，對能量的需求少，對化學品的需求少或為零。

　　(2)資源利用經本系統處理后的再生水，符合工廠嚴格的再生水質量要求，可直接供應純水系統或直接回用至生產線。

　　(3)性價比高本系統操作方便，耐沖擊負荷，占地面積小，穩定性高，運行成本低，通過了多個成功案例的驗證。

　　半導體生產廢水主要來源于車間的鍍槽、清洗水等，其主要污染物為Ag、Cu、Ni、COD、SS、CN、酸堿等。由于半導體工業廢水排放量大，廢水污染物種類多，成分復雜，尤其是溶解固體和懸浮固體在含量、酸堿度和金屬雜質等方面存在差異，使得半導體工業廢水的再利用對傳統工藝提出了挑戰。

　　1 酸堿廢水處理工藝

　　酸堿廢水主要為含酸含堿廢水。依據濃度不同，常采用工藝主要有pH中和法和濃縮法，基于本項目酸堿廢水的pH范圍和項目成本，本工藝采用pH中和法。

　　主要流程為：酸堿廢水進入酸堿廢水調節池，進行曝氣混勻，然后通過水泵提升進入pH中和池進行三級酸堿加藥反應。調節pH至中性，出水進入排放池，達標排放。

　　2 含氟廢水處理工藝

　　含氟廢水處理常采用工藝為吸附法和化學加藥混凝法。本項目中進水氟離子濃度為300mg/L，采用混凝沉淀法。另配置一套活性氧化鋁吸附裝置，若不達標則經氧化鋁吸附后排放。

　　主要流程：含氟廢水進入含氟調節池進行曝氣混勻。后經提升泵提升至含氟反應池。池中設有pH計，控制加藥泵投加酸堿，調節pH值為7～9，同時用投加CaCl2，反應生成沉淀。之后依次自流進入混凝池和絮凝池，通過加藥泵分別加入PAC與PAM，進一步混凝沉淀。

　　3 研磨廢水處理工藝

　　研磨廢水主要成分為硅粉等無機懸浮物，SS較高。故常采用的化學混凝沉淀法作預處理。

　　主要流程為：研磨廢水經進入研磨廢水調節池，曝氣混勻后，由水泵提升至反應池，池中調節pH并加入PAC混凝沉淀,之后自流進入絮凝池，池中加入PAM，絮凝后進入沉淀池。沉淀池上清液再進入生化池。

　　以上就是本文的半導體生產廢水處理工藝相關資料，若您需要進一步了解污水處理的定制方案或一體化污水處理設備，歡迎來電咨詢。